中方对荷兰扩展光刻机控制表明不满

本报特约记者 文 简

针对荷兰6日宣告扩展对先进半导体制作设备的出口控制，我国商务部新闻发言人8日表明，荷方在2023年半导体出口控制办法的基础上，进一步扩展对光刻机的控制规模，中方对此表明不满。

荷兰半导体设备制作商阿斯麦日前表明，荷兰政府此次控制适用于其NXT:1970i和1980i 滋润式DUV（深紫外）光刻体系。美媒称，在荷兰宣告新决议的前一天，美国发布更新的出口规矩，收紧对量子核算和半导体制作设备等关键技术的出口控制。荷兰更新的相关条款中采用了美国的遣词。在美国的压力下，荷兰政府不允许阿斯麦向我国客户出口其最先进的EUV（极紫外）设备，并从2023年9月开端约束NXT:2000系列及更好的DUV设备出口。2023年10月，美国单独面开端约束1970i和1980i的出货。路透社称，荷兰的新规矩与美国上一年单独面的出口约束保持一致。

对此，我国商务部发言人表明，中方注意到相关状况。近来，中荷两边就半导体出口控制问题展开了多层级、多频次的交流商量。荷方在2023年半导体出口控制办法的基础上，进一步扩展对光刻机的控制规模，中方对此表明不满。近年来，美国为保护本身全球霸权，不断泛化国家安全概念，钳制单个国家加严半导体及设备出口控制办法，严峻威胁全球半导体产业链供应链安稳，严峻危害相关国家和企业正当权益，中方对此坚决对立。

发言人还说，荷方应从保护国际经贸规矩及中荷经贸合作全局动身，尊重商场准则和契约精力，防止有关办法阻止两国半导体职业正常合作和开展，不乱用出口控制办法，实在保护中荷企业和两边共同利益，保护全球半导体产业链供应链安稳。▲